设备层一般在几层会有什么影响

...磁控溅射设备专利,能够增加粒子的离化率,进而提升镀膜的膜层性能腔室内且相对设置的第一对向靶阴极和第二对向靶阴极,以及设置于第一对向靶阴极的第一磁控组件和设置于第二对向靶阴极的第二磁控组件,第一磁控组件和第二磁控组件用于在基片台和溅射阴极之间形成磁场。上述磁控溅射设备能够增加粒子的离化率,进而提升镀膜的膜层性能。

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